ETH Zurich Norris教授课题组：3D纳米直写技能助力恣意描摹六方氮化硼（hBN）纳米3D结构的制备

  六方氮化硼（hBN）单晶纳米片的原子滑润外表，为光电应用范畴带来了革 命性的打破。在纳米光学方面，hBN的强非线性、双曲线色散和单光子发射等特性，为相应的光学和量子光学器材带来一些有功能。在纳米电子学范畴，杰出的物理，化学安稳性和较宽的禁带，使hBN成为二维电子器材的要害资料。现在，对hBN的研讨要点局限于二维扁平结构，没有涉其3D立体结构对功能的影响。如果能依据需求对hBN纳米片的高度做出相应调整，将为下一代光电器材中调理光子流，电子流和激子流等功能供给一个有用的办法。

  近来，Norris教授课题组运用3D纳米直写技能和反应离子刻蚀的办法制备出可恣意调控描摹的hBN纳米3D结构。此类hBN纳米3D结构在光电子器材研讨范畴尚属次。满意于

  在光刻胶上能完成亚纳米精度的加工，Norris教授课题组运用该办法制备了光电子学相板、光栅耦合器和透镜等元件。获得的元件经过后续拼装进程制备成高安稳、高质量的光学微腔结构。随后，经过缩小图形长度份额的办法，引进电子傅里叶曲面，在hBN上完成杂乱的高精度微纳结构，展示了NanoFrazor在3D纳米加工范畴的潜力。

  （a）左图为运用NanoFrazor在光刻胶外表上完成3D结构制备，右图为经过反应离子刻蚀办法将光刻胶上的3D结构转移到hBN的流程；（b）Mandelbrot分形图画刻蚀在光刻胶上的成果。黑色代表图形的 高处，白色为 低处；（c）光刻胶上的Mandelbrot分形图画经过图（a）中的进程转移到hBN上的成果；（d）图（c）中hBN的SEM（倾转30o）表征成果。

  （a）白色中线左边为预备的高密度图形样图，右侧为经过NanoFrazor将高密度图形转移到hBN后的实践成果；（b）将图（a）中的图形转移到hBN后的SEM表征成果；（c）AFM丈量图（a）中赤色虚直线所示部分的外表描摹；（d）hBN纳米3D结构的高分辩成像，左下角厚度为95 nm，右上角厚度为50 nm；（e）AFM丈量hBN中高密度方形结构（29 nm）周期性图样成果，表现了NanoFrazor对制备结构的高度可控性；右上角插图是该周期性结构的快速傅里叶变换（FFT）成果。

  （a）在130 nm厚hBN上制备螺旋相位板阵列的光学表征成果；（b）单个螺旋相位板的AFM成果；（c）具有球形概括的hBN微透镜光学显微照片；（d）微透镜理论图样（左边）和实践制备成果（右侧）比较；（e）光学微腔的示意图，镜、底镜、hBN微透镜（蓝色）和带横向约束（黑色箭头）的腔形式（赤色）；（f）具有hBN微透镜的微腔角分辩光谱成果；（g）依据制备的微腔几许结构所核算的横向Ince-Gaussian模散布成果；（h）丈量的横向Ince-Gaussian散布成果。

  （a）具有六边形晶格的电子傅里叶曲面位图；（d）将两个六边形晶格与一个在平面上旋转10°的晶格叠加而成的位图；（g）两个叠加的六边形晶格的位图，周期分别为55和47 nm，无平面内旋转；（j）将九个位图分别在平面内旋转0、20、40、60、80、100、120、140和160°后的叠加效果；（b）、（e）、（h）、（k）为运用NanoFrazor在光刻胶上制备（a）、（d）、（g）、（j）中图形时所获得的成果；（c）、（f）、（i）、（l）、是把（b）、（e）、（h）、（k）中的图画刻蚀在hBN上的AFM丈量成果；（a）-（l）中的插图代表着相应图画的FFT成果。

  本文运用NanoFrazor有的3D纳米直写技能在hBN上完成了杂乱高精度纳米3D结构的制备,为光电器材功能的应变调控和能带结构调控带来了新的研讨方向。这一研讨依据成果得出，NanoFrazor在开辟双曲线超资料、化电子、改变电子、量子资料和深紫外光电器材等范畴新的研讨方向上有着重要的效果。

  Science子刊！单个外泌体表征剖析技能助力神经元外泌体研讨范畴获得重要发展

  高温可达3000℃！高温度高压力光学浮区炉顺畅落户我国电子科技集团公司第九研讨所

  外泌体研讨快车道！全自动外泌体荧光检测剖析体系落户水兵军医大学隶属公利医院

  基因和细胞医治解决方案详解：加快的实验室——丹纳赫 以科技加快新疗法开发

  接连低温，惊喜“不断” ——最新发布：可快速换样的mK级多功能超安稳极低温体系！

  小型台式无掩膜光刻机制备微流控通道助力不同描摹酿酒酵母菌的有用分类和搜集

  技能线um分辩率，同步丈量单细胞、聚合物和微塑料的红外与拉曼(IR+Raman)光谱》